Der bereits als vorläufiges Ergebnis bekannt gegebene und inzwischen testierte Gesamtumsatz belief sich im Jahr 2010 auf 220,5 Mio. Euro. Alle wesentlichen Finanzkennzahlen warten mit deutlich zweistelligen Wachstumsraten auf.
Pfeiffer Vacuum gibt vorläufige, noch nicht geprüfte Ergebnisse für das Geschäftsjahr 2010 bekannt. Demnach hat das Unternehmen seinen Umsatz um 21,1 Prozent auf 220,5 Mio. Euro gesteigert (Vorjahr: 182,0 Mio. Euro). Die guten Entwicklungen im Kerngeschäft über alle Segmente hinweg wie auch die erstmalige Einbeziehung der Umsätze von Trinos Vakuum-Systeme GmbH in Höhe von 17,3 Mio. Euro führten zu diesem hervorragenden Resultat. Das Betriebsergebnis in Höhe von 52,9 Mio. Euro verzeichnete einen noch höheren Anstieg um 40,1 Prozent (Vorjahr: 37,8 Mio. Euro). Somit liegt die operative Marge für das Jahr 2010 bei 24,0 Prozent und damit wieder auf gewohnt hohem Pfeiffer Vacuum-Niveau.
Die Pfeiffer Vacuum Technology AG hat am 31.12.2010 den Erwerb des Geschäftsbereichs Vakuumtechnologie des Alcatel-Lucent-Konzerns „Adixen“ abgeschlossen. Der Kaufpreis beträgt etwa 200 Mio. Euro inklusive Schuldenablösung. Um die Transaktion zu finanzieren, hat Pfeiffer Vacuum am 18. November ca. 112 Mio. Euro durch eine Kapitalerhöhung und den Verkauf eigener Aktien erhalten. Der verbleibenden Teil des Kaufpreises wird durch ein Darlehen bereitgestellt.
Die Pfeiffer Vacuum Technology AG, Asslar, beabsichtigt den Erwerb des Geschäftsbereichs Vakuumtechnologie (“Adixen”) des Alcatel-Lucent-Konzerns mit Hauptsitz in Annecy, Frankreich. Die Verhandlungen über den Kauf der zu diesem Geschäftsbereich gehörenden Gesellschaften sowie von Patenten und Lizenzen wurden weitgehend abgeschlossen.
www.pfeiffer-vacuum.de wurde neu gestaltet. Verbessert wurde unter anderem die Tab-Navigation, um auf Seiten direkt zugreifen zu können und Ladezeiten auf ein Minimum zu verringern. So soll sich der Anwender übersichtlicher, einfacher und schneller zwischen den einzelnen Bereichen der Seite bewegen können. Wichtige Informationen und Termine sind mit wenigen Klicks zu finden. Neu integriert wurde ein Feedback-Manager, der dem Anwender ein direktes Bewerten der Seite ermöglicht. Für den persönlichen Kontakt werden weltweit stets die zutreffenden Ansprechpartner mit Kontaktdetails dargestellt.
Bei Pfeiffer Vacuum manifestiert sich die Erholung. Das Unternehmen hat seinen Umsatz im ersten Halbjahr 2010 auf 99,5 Mio. Euro gesteigert. Die Aussichten auf das Gesamtjahr sind sehr gut, denn die Auftragseingänge liegen im ersten Halbjahr 2010 mit 103,2 Mio. Euro um 29,0 Prozent über dem Vorjahreswert von 80,0 Mio. Euro.
Pfeiffer Vacuum erweitert die Anzahl der Tochtergesellschaften um eine weitere in Moskau. Der neue russische Standort beheimatet eine Vertriebs- und eine Service-Einheit ebenso wie ein Lager vor Ort. Es ist Teil der Pfeiffer Vacuum Strategie, die Präsenz in Osteuropa auszubauen und die zunehmende industrielle Entwicklung dort mit seinen schnell erhältlichen Produkten und eigenen Wartungsmitarbeitern zu unterstützen. Manfred Bender, Vorstandsvorsitzender von Pfeiffer Vacuum erklärt: „Russland und seine Nachbarländer sind für uns über alle Marktsegmente hinweg ein wichtiger Wachstumsmarkt. Besonders stark ist dort traditionell der Forschungssektor. Aber auch lokale Vakuumanlagen-Hersteller und der gesamte industrielle Anwendungsbereich stechen aus dem allgemein guten Marktumfeld noch hervor.“
Pfeiffer Vacuum hat eine neue Reihe magnetgelagerter Turbopumpen namens HiPace M entwickelt.
Ein Saugvermögen von 300, 700 und 800 Liter pro Sekunde wird damit abgedeckt. Es werden hohe Kompressionsraten für alle Gase erreicht. Die Pumpen zeichnen sich durch eine hohe Flexibilität in allen Einbaulagen aus. Die nicht limitierte Lebensdauer des Rotors und der sichere Betrieb werden durch das besondere Rotordesign ermöglicht. Weiterhin wird die Schutzklasse IP54 erreicht, was den Einsatz im industriellen Umfeld ermöglicht. Durch das geringe dynamische Magnetfeld werden selbst hoch empfindliche Geräte in der Umgebung nicht gestört. Somit sind die Pumpen ideal geeignet für die hohen Anforderungen von analytischen Applikationen. Das breite Spektrum von Anwendungen umfasst die Analytik, Beschichtungs- und Halbleitertechnik sowie auch verschiedene Anwendungen im Bereich Forschung & Entwicklung und Industrie.